MEMS・半導体

MEMS

AlSc (High Scandium) ターゲット

低濃度Scから高濃度Scまで用途に応じた幅広い組成比をご提供できます。

半導体

Au ターゲット

半導体、MEMS用途で主に使われ、Fine grade の細かい粒径が特徴です。

NiPt ターゲット

100μ以下の粒子でターゲット全面で粒径が均一である事が特徴です。

Pt ターゲット

4N
キャスティング
等軸構造
密度 : 100%

Ru ターゲット

4N
密度 : 99.5%

TiW ターゲット

UBM等で活用されています

Ni アノード

電解メッキ用アノード

Cu アノード

電解メッキ用アノード