MEMS・半導体
MEMS

AlSc (High Scandium) ターゲット
低濃度Scから高濃度Scまで用途に応じた幅広い組成比をご提供できます。
半導体

Au ターゲット
半導体、MEMS用途で主に使われ、Fine grade の細かい粒径が特徴です。

NiPt ターゲット
100μ以下の粒子でターゲット全面で粒径が均一である事が特徴です。

Pt ターゲット
4N
キャスティング
等軸構造
密度 : 100%

Ru ターゲット
4N
密度 : 99.5%

TiW ターゲット
UBM等で活用されています

Ni アノード
電解メッキ用アノード

Cu アノード
電解メッキ用アノード